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ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

簡(jiǎn)要描述:ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器
H-Genie®是研發(fā)TOP- 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發(fā)生器,利用壓力池技術(shù)生產(chǎn)4.0純度的H2,從水到高達 100 bar (14.5–1450 psi) 的氫氣,流速高達 1 NL/min。

  • 產(chǎn)品型號:百瑞科技
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-08
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:2470

詳細介紹

ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

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公司介紹:ThalesNano Inc. 泰雷茲納諾公司是一家創(chuàng )新驅動(dòng)型公司,專(zhuān)注于開(kāi)發(fā)臺式流動(dòng)化學(xué)儀器和解決方案,以應對合成化學(xué)挑戰。

公司于2002年在匈牙利布達佩斯成立。從那時(shí)起,泰雷茲納諾在美國辦事處和全球分銷(xiāo)商網(wǎng)絡(luò )的幫助下,在全球范圍內開(kāi)展業(yè)務(wù)。目前,我們的儀器在全球使用超過(guò)1500種。我們的使命是使流動(dòng)化學(xué)成為日常實(shí)驗室例行程序的一部分,并使化學(xué)過(guò)程更安全,更輕松,更有效。我們非常重視通過(guò)協(xié)助科學(xué)合作和教育來(lái)支持研究和開(kāi)發(fā)。

我們在市場(chǎng)上的第一臺儀器,H-Cube連續流動(dòng)加氫反應器于2004年推出。該儀器具有突破性的創(chuàng )新氫氣發(fā)生器以及流動(dòng)化學(xué)技術(shù)的優(yōu)勢。它已獲得研發(fā)TOP -100獎,并被全球數百家實(shí)驗室使用。近年來(lái),H-Cube已成為加氫的新行業(yè)標準。

為了滿(mǎn)足市場(chǎng)需求,泰雷茲納諾開(kāi)發(fā)了新的連續流動(dòng)反應器,以覆蓋壓力和溫度方面擴展的化學(xué)空間。如今,該公司擁有*泛的實(shí)驗室規模儀器產(chǎn)品組合,適用于制藥,生物技術(shù),精細化學(xué)品,香精香料,農用化學(xué)品和石化市場(chǎng),以及學(xué)術(shù)研究小組和教育。

我們的產(chǎn)品系列解決了具有困難或危險反應的日常問(wèn)題。我們提供方便、安全的替代方案,具有易重復性。此外,溫度范圍為-701000°C,壓力從真空到200 bar,可實(shí)現新的化學(xué)參數窗口,否則在間歇工藝中無(wú)法實(shí)現。

關(guān)于催化加氫

催化加氫是當今化工行業(yè)最重要的轉變之一。多相催化加氫除其他外,用于以下轉變:

  • 雙鍵或三鍵減少

  • 硝基減少

  • 脫芐化反應

  • 雜環(huán)飽和度

  • 脫鹵反應

  • 脫硫反應

  • 不對稱(chēng)加氫

加氫通常使用間歇技術(shù)進(jìn)行。然而,這些反應有許多缺點(diǎn)

  • 使用氫氣瓶是一種危險。

  • 催化劑本身可能是自燃的,使得這些催化劑的添加或過(guò)濾變得危險。

  • 溶劑的脫氣和惰性氣體對反應器的吹掃使反應過(guò)于復雜。

  • 氫氣與溶劑和催化劑的混合較差,導致反應時(shí)間長(cháng)。

所有這些缺點(diǎn)的結合意味著(zhù)化學(xué)家試圖避免這種有用的轉變。在泰雷茲納諾,我們開(kāi)發(fā)了H-Cube系列,以確保以安全簡(jiǎn)便的方式再次在實(shí)驗室中使用加氫。

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1設備名稱(chēng):氫氣發(fā)生器

2用途:

H-Genie®是研發(fā)TOP 100屢獲殊榮的緊湊型氫氣發(fā)生器,利用壓力池技術(shù)生產(chǎn)4.0純度的H2,從水到高達 100 bar (14.5–1450 psi) 的氫氣,流速高達 1 NL/min。

H-Genie一款提供可變氣體流速,反應監測和壓力能力的氫氣發(fā)生器,可實(shí)現擴展和更快的化學(xué)。H-Genie是為間歇化學(xué)和流動(dòng)化學(xué)應用提供高壓氫氣的理想解決方案。該系統設計用于任何實(shí)驗室,以擴展您的化學(xué)能力。

產(chǎn)品特點(diǎn):

只需去離子水,不需要壓縮機

使用壓力拓展了實(shí)驗壓力范圍

用一個(gè)H-GENIE就可以供應多臺反應釜使用

內部配有H2探測器,可實(shí)現自動(dòng)關(guān)機

占地面積小,節省空間

流量、壓力和體積控制

適用于大流量和小流量規模

自動(dòng)干燥系統:沒(méi)有干燥劑桶

簡(jiǎn)單的使用和設置:只需點(diǎn)擊即可

適用于任何實(shí)驗室和反應釜

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ThalesNano- H-Genie高壓氫氣發(fā)生器

技術(shù)參數:

氫氣產(chǎn)生速率:0.1-1NL/min

輸出壓力范圍:1-100bar

氣體純度:≥99.99%4.0@100bar

水的純度:建議去離子水的純度<1μS/cm

水的消耗速率:<200cm3/hr

儲水量:內部:3L

建議環(huán)境:實(shí)驗室通風(fēng)櫥

功率要求:電源:100V to 240V AC, 47– 63Hz

功率消耗:**1500VA

儀器尺寸:345mm×365mm×460mm

儀器重量:38kg

出口參數:1/8英寸外徑的管線(xiàn),出口閥可以與1/8"外螺紋管線(xiàn)相連接。

操作和存儲/運輸環(huán)境:10–35 °C;< 80% RH。

安全性

H-Genie®按需從水中產(chǎn)生氫氣,消除了實(shí)驗室中氫氣瓶的風(fēng)險。它還包括多種安全功能和緊急關(guān)機協(xié)議。

智能化

憑借其內置的質(zhì)量流量控制器,H-Genie®可以監控使用的氫氣量,可以通過(guò)其圖形界面輕松監控。所有數據都可以輕松導出。

適用多種用途

H-Genie®與所有間歇和流動(dòng)反應器甚至氣球*兼容。只需一個(gè)通風(fēng)通風(fēng)櫥即可操作它,因此無(wú)論您的實(shí)驗室設置如何,您都可以使用它。

與 H-GENIE 兼容的系統®

鳳凰流動(dòng)反應釜™Phoenix Flow Reactor™是一種功能強大的儀器,可以將反應區加熱到450°C,并且與多種類(lèi)型和尺寸的反應器(CatCarts®,MidiCarts™,盤(pán)管反應器,金屬 - 金屬密封催化劑柱)兼容。

H-Genie®與鳳凰流動(dòng)反應器™的結合提供了加氫合成,放大或催化劑測試能力。

加氫開(kāi)發(fā)平臺設計用于任何發(fā)現、開(kāi)發(fā)、工藝、石化或催化劑篩選實(shí)驗室,將水中的原位高壓制氫與高溫反應器能力和精確的氣體數據監測系統相結合?;瘜W(xué)家和化學(xué)工程師現在可以使用高達 450°C 和 100 bar(提供 200 和 300 Bar 版本)的均相或非均相催化劑進(jìn)行氫基實(shí)驗,而無(wú)需氫氣瓶或氫基礎設施。

控制模塊™

控制模塊™允許通過(guò)觸摸屏控制和可視化任何連接模塊的記錄。整個(gè)系統參數的自動(dòng)控制在安全方面起著(zhù)至關(guān)重要的作用



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